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    普樂斯12年專注等離子清洗機研制低溫等離子表面處理系統方案解決商

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    等離子表面處理設備的這兩類化學反應類型有何應用?

    返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發布日期:2020-12-14 08:46【
    文章導讀:當等離子表面處理設備對固體材料進行處理時,通常包括物理和化學反應,其中大部分的反應是作用在材料的表面,屬于非平衡式的氣-固相反應。如果想要詳實地了解等離子表面處理設備對固體材料表面的化學反應,通常需要對四類化學反應類型有所了解,普樂斯先與大家介紹其中兩種化學反應類型及其應用。
           為了方便描述等離子表面處理設備的這兩種化學反應過程,普樂斯將用化學反應方程式來表示其反應的過程,下述反應式中的英文字母具有不同的含義。大寫字母A、B、C、D、M代表不同物質;小寫字母s、g則分別代表物質固體形態和氣體形態。
    【普樂斯】等離子表面處理設備
    一、反應式為A(s)+B(g)→C(g)的反應和工藝應用
           這一類的等離子表面處理設備的處理工藝應用上,目前較為成熟的有等離子體刻蝕即PE、等離子體灰化即PA、等離子體化學氣相輸運即PCVT。那么這三類工藝有哪些實際應用呢?
    1.等離子體刻蝕
           等離子刻蝕在半導體集成電路制程中使用較多,通常會選用腐蝕性四氟化碳氣體與其他氣體混合后,經輝光放電后與固體材料部分位置發生反應,形成揮發性物質并去除。
    2.等離子體灰化
           等離子體灰化常見于半導體干法工藝中用以光刻膠的去除,通常使用氧等離子體,將有機物中的碳氫成分形成易揮發的二氧化碳和水等。而在分析化學領域中,采用等離子體灰化可對有機物樣品進行“低溫”灰化,方便對剩下的無機物成分進行所需分析。
    3.等離子體化學氣相輸運
           這一類型的反應中所生成的氣體物質C會在反應器的另一端發生逆向反應,讓A重新析出。
    【普樂斯】等離子表面處理設備放電狀態
    二、反應式為A(s)+B(g)→C(s)的反應和工藝應用
           從反應式我們可以看出,這一類的反應指等離子表面處理設備與固體材料表面作用生成新的化合物,使材料表面性質發生改變,這一類反應也是大家應該較為熟悉的等離子表面改性。當等離子表面改性對金屬表面進行處理時,就是金屬的表面氧化或氮化;而等離子表面改性是對高分子材料表面處理時,就是材料表面處理。
           普樂斯電子10年專注研制等離子清洗機,等離子體清洗機,等離子清洗設備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理設備,大氣低溫等離子體表面處理系統,大氣常壓收放卷等離子表面處理設備,已通過ISO9001質量體系和歐盟CE認證,為電子、半導體、汽車、yi療等領域的客戶提供清洗,活化,刻蝕,涂覆的等離子表面處理解決方案,是行業內值得信賴的等離子清洗機廠家。如果您想要了解更多關于產品的詳細內容或在設備使用中有疑問,歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢,或者直接撥打全國統一服務熱線400-816-9009,普樂斯恭候您的來電!

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