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    等離子清洗設備在固體材料表面處理中的化學過程

    返回列表 來源:普樂斯 瀏覽: 發布日期:2020-07-28 10:14【
    文章導讀:當使用等離子清洗設備對固體材料進行表面處理,等離子體中的粒子能夠將自身的能量傳遞至固體表面,因自身能量較大,因而能夠使固體表面的原子或分子生成新的化學鍵,或將原來的化學鍵斷裂。而主要的化學過程主要包括氧化、還原、分解和裂解、聚合幾個方面。
          在之前的內容中向大家介紹了等離子清洗機與固體表面的物理作用,而與固體材料表面的化學過程是與物理作用相應的一個處理過程,接下來給大家總結介紹關于等離子清洗設備在固體材料表面處理中的化學過程。
    真空等離子清洗設備-普樂斯
    一、氧化過程
          氧是一種強的氧化劑,當等離子清洗設備使用氧氣作為工藝氣體時,其產生的等離子體中也會存在氧,與固體表面發生氧化反應,能夠在表面形成氧化物或過氧化物。
     
    二、還原過程
          氫原子具有較高的反應能力,是強還原劑的一種,在等離子體清洗機的處理中,既能夠將反應的固體材料表面的氧化物進行還原,通常又能滲透到材料深層,將較為深層的氧化物進行還原,將金屬氧化物中的金屬還原出來便是其中一種應用實例。
     
    三、分解和裂解過程
          在等離子清洗機中的等離子體作用下,能夠使固體材料表面分子發生分解、斷裂大分子和分子鍵,以及能夠降低分子量。
    等離子清洗設備聚合處理-普樂斯
    四、聚合過程
          當等離子清洗設備引入單體時,能夠在材料表面進行聚合反應,能夠生成聚合物并沉積在固體表面,或者通過等離子體誘發在固體表面產生自由基,從而通過分子鍵交聯、側鍵上接枝、官能團轉換或嵌斷聚合等方式與跟單體進行結合。

          普樂斯電子10年專注研制等離子清洗機,等離子體清洗機,等離子清洗設備,常壓大氣和低壓真空型低溫等離子表面處理機,已通過ISO9001質量體系和歐盟CE認證,為電子、半導體、汽車、yi療等領域的客戶提供清洗,活化,刻蝕,涂覆的等離子表面處理解決方案,是行業內值得信賴的等離子清洗機廠家。如果您想要了解更多關于產品的詳細內容或在設備使用中有疑問,歡迎點擊普樂斯的在線客服進行咨詢,或者直接撥打全國統一服務熱線400-816-9009,普樂斯恭候您的來電! 

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